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集成电路产业总览和中国集成电路产业现状
发布日期:2022-04-07   浏览次数:

报告时间:2022410 14:30--16:00

报告类型:#腾讯会议:573-962-292

:韦亚一 研究员

报告人简历:韦亚一博士,中组部第八批“千人计划”入选者,中国科学院微电子研究所研究员,博士生导师,中国科学院大学岗位教授。1998年毕业于德国Stuttgart大学/马普固体研究所,获博士学位,师从诺贝尔物理奖获得者Klaus von Klitzing。先后在美国能源部橡树岭国家实验室、美国英飞凌公司纽约研发中心、美国格罗方德公司纽约研发中心工作。韦亚一博士长期从事半导体光刻领域设备、材料和制程研发,先后参与或主持了从180nm一直到10nm节点的光刻工艺研发,具有丰富的先进光刻研发经验,取得了多项核心技术。韦亚一博士发表了超过70篇的专业文献并持有多项美国专利。由于在193nm浸没式光刻技术上的开创性贡献,于2009年受SPIE邀请出版专著“Advanced processes for 193nm immersion lithography”,该书已被美国多所高校和研究机构作为研究生的教材和主要参考书。20137月回国工作,首先作为项目首席科学家主持了国家02重大专项“300mm晶圆匀胶显影 设备和光刻工艺研发”(沈阳芯源微电子设备有限公司);并在中科院微电子所建立了计算光刻课题组,从事20nm以下技术节点的光源-掩模协同优化(SMO)和光学邻近效应修正(OPC) 研究。韦亚一的研究成果被广泛应用于国内FinFET3D NAND的量产工艺中;并于20167月在科学出版社出版了“超大规模集成电路的先进光刻理论与应用”一书。20173月计算光刻课题组升格为计算光刻研发中心,并被北京市授予中关村开放实验室,韦亚一博士任中心和开放实验室主任。


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